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射頻等離子體去膠機(jī)是一種專(zhuān)門(mén)用于去除材料表面膠層或高分子物質(zhì)的設(shè)備，其利用高頻電場(chǎng)產(chǎn)生的等離子體進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，將各種高分子物質(zhì)轉(zhuǎn)化為易于處理的低分子物質(zhì)，從而實(shí)現(xiàn)去膠的目的，這個(gè)工藝通常又被稱(chēng)為灰化工藝，射頻等離子體去膠技術(shù)是一種高效、環(huán)保的去膠方法，它無(wú)需使用化學(xué)溶劑和水,可以有效避免污染和廢棄物處理難題。射頻等離子體去膠機(jī)通常包含射頻電源、反應(yīng)腔體、氣體控制系統(tǒng)和真空系統(tǒng)等部分，射頻電源用于產(chǎn)生高頻電場(chǎng)，反應(yīng)腔體是等離子體產(chǎn)生的場(chǎng)所，氣體控制系統(tǒng)用于控制反應(yīng)氣體的種類(lèi)和流量，真空系統(tǒng)則用于維持腔體內(nèi)的低壓環(huán)境，促進(jìn)等離子體的形成和化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行，設(shè)備真空腔體里面內(nèi)置若干電極板，可以用于小批量去膠，提高生產(chǎn)效率。

采用氣體離子化的方式來(lái)轟擊去除光刻膠，保證了器件的完整性。射頻等離子體去膠機(jī)適用于玻璃、金屬種子層、硅片、壓電陶瓷等各類(lèi)襯底，通過(guò)等離子轟擊不僅可以去除表面的殘膠，還能活化襯底，改善其表面的親水性能。