Sep. 14, 2023
隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)規(guī)模迅速擴(kuò)大,各種工藝技術(shù)不斷進(jìn)步。光刻膠去除工藝在集成電路制造過(guò)程中約占30%~35%,對(duì)于產(chǎn)品良率、性能和生產(chǎn)成本有著重要影響,因此對(duì)于去膠設(shè)備的研究不可或缺。去膠工藝根據(jù)腐蝕的方法可以分為濕法去膠和干法去膠,濕法去膠是在有機(jī)溶劑中溶解掉光刻膠,具有去膠周期長(zhǎng),操作復(fù)雜,可能引入無(wú)機(jī)雜質(zhì)等不足之處;干法去膠主要是在等離子去膠機(jī)產(chǎn)生的氧原子環(huán)境下與光刻膠的反應(yīng),這種方式對(duì)晶圓表面器件有一定損傷,但經(jīng)過(guò)多年的發(fā)展已有很大改善,目前產(chǎn)業(yè)應(yīng)用以等離子去膠為主,濕法去膠成為補(bǔ)充方式。
在石英腔室中,抽真空后通入適量的氧氣,在射頻電源創(chuàng)造的高頻電磁場(chǎng)中,氧氣被電離成O2-、O2+、O-、O+、氧原子O、臭氧等活潑的等離子體,其中氧原子能量很高,在高頻電場(chǎng)的輔助下可以使基片上的光致抗蝕劑與其快速發(fā)生氧化反應(yīng)生成CO、CO2、H2O和其它揮發(fā)性氧化物,被真空泵抽走,實(shí)現(xiàn)去膠的目的,其原理如圖1所示。
圖 1 等離子去膠原理示意圖
等離子去膠機(jī)主要由真空與壓力控制系統(tǒng)、反應(yīng)腔室、氣體與控制系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)、射頻及其匹配系統(tǒng)和傳片系統(tǒng)等構(gòu)成,如圖2所示。
圖 2 等離子去膠機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖
1.2.1 真空與壓力控制系統(tǒng)
等離子去膠工藝對(duì)真空的要求普遍在1~10Pa,主流的機(jī)械泵和油泵都可以達(dá)到要求。真空系統(tǒng)的硬件包括真空泵、主抽閥、控制抽速的蝶閥、真空計(jì)等,主抽閥控制抽氣的開閉,蝶閥在工藝達(dá)到指定壓力后調(diào)節(jié)合適的抽速以維持穩(wěn)定的壓力。
1.2.2 反應(yīng)腔室
在圖2中,反應(yīng)腔室的承片臺(tái),上方由石英管覆蓋,工藝氣體經(jīng)由頂部的細(xì)管通入基片的正上方,下方連接著真空管路和真空計(jì)。承片臺(tái)下方內(nèi)部固定著熱偶和加熱裝置,在承片臺(tái)內(nèi)部有水路,下方連接進(jìn)出水管以冷卻,這些部件由溫控器協(xié)調(diào),控制腔室溫度。
1.2.3 氣體和控制系統(tǒng)
等離子去膠工藝大多使用氧氣,氧氣的流量關(guān)系到腔室的壓力、去膠的速度和均勻性。通過(guò)電腦控制氣動(dòng)閥門和質(zhì)量流量計(jì)實(shí)現(xiàn)工藝氣體流量的精確控制。
1.2.4 射頻和匹配系統(tǒng)
產(chǎn)生等離子體通常使用13.56MHz的射頻電源以獲得高頻高壓的電磁場(chǎng)環(huán)境,由于工藝氣體含量和壓力的輕微波動(dòng)導(dǎo)致負(fù)載波動(dòng),射頻電源需要通過(guò)自動(dòng)匹配模塊的匹配使負(fù)載的輸入阻抗與電源內(nèi)阻相等,匹配模塊的輸出端直接連接腔體周圍的電極。負(fù)載阻抗如果無(wú)法與射頻源匹配,會(huì)導(dǎo)致反射功率過(guò)大,進(jìn)而產(chǎn)生過(guò)多的熱損耗和駐波高壓,同時(shí)對(duì)射頻源的穩(wěn)定運(yùn)行和加工產(chǎn)品的性能產(chǎn)生不良影響。自動(dòng)匹配功能一般由可調(diào)電容配合電感實(shí)現(xiàn),有的自動(dòng)匹配模塊還會(huì)通過(guò)在可調(diào)電容兩端并聯(lián)電容以及串并聯(lián)不同擋位的電感等方式提高匹配范圍。
1.2.5 傳片系統(tǒng)
傳片系統(tǒng)以機(jī)械臂為核心,由3個(gè)伺服電機(jī)分別驅(qū)動(dòng)T、R、Z坐標(biāo)軸的運(yùn)動(dòng)?;谟姓婵盏臋C(jī)械臂上傳送,分別經(jīng)過(guò)片盒、中心對(duì)正器、腔室門進(jìn)入腔室,在工藝完成后,通過(guò)腔室門、冷卻室、中心對(duì)正器再放回片盒。
本文以單片去膠設(shè)備為例,介紹了等離子去膠機(jī)的工作原理及其結(jié)構(gòu),作為電子工業(yè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)不可或缺的工藝技術(shù)和設(shè)備,等離子去膠機(jī)需要得到更多的關(guān)注和研究。
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