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等離子表面處理機(jī)是一種應(yīng)用低溫等離子體來進(jìn)行材料表面活化、清潔、改性的設(shè)備，工藝參數(shù)有很多，主要包括射頻頻率與功率、腔體真空度、反應(yīng)時(shí)間、腔體溫度、工藝氣體種類及流量等。了解各個(gè)工藝參數(shù)在等離子表面處理過程中的作用，對如何進(jìn)行等離子表面處理機(jī)參數(shù)設(shè)置有很大幫助。下面就分別講述各個(gè)參數(shù)對等離子表面處理效果的影響。

射頻頻率

作為等離子激發(fā)的能量源，激勵(lì)源的頻率一般選擇40KHz、13.56MHz和2.45GHz。激勵(lì)源的頻率影響工藝氣體的電離程度，氣體形成等離子體的程度會(huì)隨著射頻頻率的增加而增大，但是過高的頻率，會(huì)導(dǎo)致電子振幅縮短，當(dāng)振幅比電子自由程還短時(shí)，電子與氣體分子碰撞機(jī)率也會(huì)大大降低，影響最終電離率。激勵(lì)源的功率決定了氣體形成離子態(tài)的能量大小，功率越大能夠激發(fā)越多的氣體形成離子態(tài)，從而提高腔體內(nèi)活性離子的密度，提高處理速率；同時(shí)隨著功率增大，腔體內(nèi)溫度也能得到相應(yīng)的提升。

真空度

腔體內(nèi)的真空度會(huì)影響工藝氣體的電離程度，真空度越高，電子運(yùn)動(dòng)的平均自由程越大，能量也就越大，越有利于電離。但是過高的真空度反而會(huì)造成氣體離子密度降低，從而使灰化效果變差。

腔體溫度

腔體溫度同樣能夠影響處理效果，溫度越高，反應(yīng)腔內(nèi)氣體離子越活躍，化學(xué)反應(yīng)越劇烈。但是過高的腔體溫度，一方面會(huì)使均勻性變差；另一方面可能對其基底本身造成損傷，影響處理后的成品率。

處理時(shí)間

等離子處理時(shí)間長短決定了處理產(chǎn)品效果的好壞，適當(dāng)?shù)奶幚頃r(shí)間可以使得工件表面潔凈度增加，有利于下道工序進(jìn)行，且不會(huì)對產(chǎn)品構(gòu)成損壞。射頻時(shí)間增長，反應(yīng)倉內(nèi)部總能量增加，對應(yīng)伴隨著溫度升高，對不耐高溫材質(zhì)形成的工件可能會(huì)出，但是過長的時(shí)間會(huì)同樣可能對某些敏感材料造成損傷。

工藝氣體及流量

工藝氣體如氧氣、氬氣、四氟化碳等，其流量的多少直接影響電離后能夠生成的等離子體數(shù)量的多少。氧氣作為清洗化學(xué)反應(yīng)中最主要的介質(zhì)氣體，流量越大，腔體內(nèi)氧氣離子密度也就越高，與材料接觸機(jī)會(huì)也增大，清洗反應(yīng)更快；但氧氣流量太大，腔體內(nèi)氧氣離子密度太高，離子的復(fù)合程度也變高，整個(gè)腔體的電離強(qiáng)度也隨著電子運(yùn)動(dòng)的自由程縮短而降低。

以上就是關(guān)于等離子表面處理機(jī)工藝參數(shù)的簡單介紹，在等離子表面處理流程中，不同的工藝參數(shù)設(shè)置會(huì)對等離子表面處理機(jī)的處理效果產(chǎn)生不同的影響。射頻功率、清洗時(shí)間、基礎(chǔ)真空壓力等參數(shù)的設(shè)置均可根據(jù)工藝試驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)，且隨著等離子處理工藝參數(shù)的改進(jìn)，處理效果會(huì)進(jìn)一步加強(qiáng)。如果還是不會(huì)設(shè)置參數(shù)，可以找我們，我們擁有豐富的經(jīng)驗(yàn)，可以為您提供關(guān)于等離子表面處理機(jī)參數(shù)設(shè)置方面的建議。