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等離子清洗機(jī)作為一種干法清洗設(shè)備，具有污染物去除效率高、清洗表面無(wú)損傷以及實(shí)現(xiàn)復(fù)雜裝置中零件的在位清洗等優(yōu)勢(shì)，是未來(lái)非常有前景的清洗技術(shù)。那么等離子清洗機(jī)的工作原理是什么呢？下面就為大家介紹一番。

為滿(mǎn)足產(chǎn)業(yè)界的需求，人們根據(jù)電子加熱方式的不同，研制出了諸多不同類(lèi)型的等離子體源。這些等離子體源主要包括通過(guò)靜電加熱產(chǎn)生等離子體的容性耦合等離子體源(capacitively coupled plasma，CCP)、通過(guò)感應(yīng)電場(chǎng)加熱的感應(yīng)耦合等離子體源(inductively coupled plasma，ICP)、通過(guò)螺旋波線圈加熱的螺旋波等離子體源(helicon wave plasma，HWP)、通過(guò)微波加熱產(chǎn)生等離子體的ECR等離子體源(electron cyclotron resonance，ECR)。根據(jù)不同的等離子體源，從而產(chǎn)生了不同的等離子清洗設(shè)備，如射頻等離子清洗機(jī)，微波等離子清洗機(jī)等。

不同等離子清洗機(jī)的工作原理都不太一樣，但是都可以歸結(jié)為是通過(guò)對(duì)氣體放電從而產(chǎn)生等離子體的裝置。下面為大家講講市面上最常見(jiàn)的真空等離子清洗機(jī)工作原理。

等離子清洗機(jī)的工作原理如下：

市面上最常見(jiàn)的等離子清洗機(jī)大都采用容性耦合等離子體發(fā)生方式CCP，CCP由真空腔室和兩個(gè)正對(duì)放置的電極構(gòu)成，類(lèi)似于平行板電容器，因此CCP也是結(jié)構(gòu)最為簡(jiǎn)單的低溫等離子體源。通常情況下，CCP的一個(gè)電極接地，稱(chēng)為接地極；另一電極接射頻電源，稱(chēng)為電源極。射頻頻率一般為兆赫茲量級(jí)。在實(shí)際放電中，射頻電源與放電腔室之間會(huì)連接一個(gè)匹配電路，用于保護(hù)電源和調(diào)節(jié)功率匹配，如圖1.1所示，這便是大部分真空等離子清洗機(jī)的工作原理圖。

等離子清洗機(jī)工作原理圖

真空等離子清洗機(jī)主要由以下幾個(gè)部分組成：反應(yīng)腔室、控制系統(tǒng)、射頻電源及匹配電路以及真空系統(tǒng)組成，其結(jié)構(gòu)如圖1.2所示。

等離子清洗機(jī)工作原理是通過(guò)真空泵將真空腔體抽至10Pa左右的真空度，然后向真空腔體中通入氬氣或者氧氣等反應(yīng)氣體，當(dāng)真空度約為10~100Pa時(shí)開(kāi)啟射頻電源，調(diào)節(jié)射頻匹配電源，起輝形成等離子體。在真空狀態(tài)下，因?yàn)闅鈮狠^小，分子間的間距變大，從而使得分子間的作用力變小，利用射頻電源產(chǎn)生的高壓交變電場(chǎng)將氧、氬氣等工藝氣體震蕩成具有高能量或者高反應(yīng)活性的離子，與有機(jī)污染物或者微顆粒反應(yīng)、碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì)，揮發(fā)性物質(zhì)由工作氣流從真空泵排出去從而達(dá)到清洗的目的。

以上就是關(guān)于容性耦合（CCP）等離子清洗機(jī)的工作原理是什么的簡(jiǎn)單介紹，等離子清洗通過(guò)復(fù)雜的物理和化學(xué)過(guò)程來(lái)去除材料表面的污染物，采用這種方法能夠提升材料的粘附性與濕潤(rùn)性，且等離子體清洗技術(shù)無(wú)需任何化學(xué)試劑，具有成本低，對(duì)環(huán)境和人員的影響小等優(yōu)勢(shì)。